В учебно-справочном руководстве проведен анализ возможностей, особенностей, ограничений и областей применения различных литографических и нелитографических методов наноструктурирования для создания топологии ИС с элементами субстонанометрового диапазона. Показаны основные физические и химические механизмы и ограничения, лежащие в основе оптической нанолитографии, нанолитографии на экстремальном ультрафиолете, наноимпринт литографии, электронной нанолитографии и вакуумного газоплазменного травлен...
В учебно-справочном руководстве проведен анализ возможностей, особенностей, ограничений и областей применения различных литографических и нелитографических методов наноструктурирования для создания топологии ИС с элементами субстонанометрового диапазона. Показаны основные физические и химические механизмы и ограничения, лежащие в основе оптической нанолитографии, нанолитографии на экстремальном ультрафиолете, наноимпринт литографии, электронной нанолитографии и вакуумного газоплазменного травления.
Приведено современное производственное оборудование различных видов нанолитографии, его операционные и конструкционно-технологические параметры, технологические и экономические характеристики реализуемых процессов.
Руководство для университетов с обучением по специальностям: 210601 "Нанотехнология в электронике", 210104 "Микроэлектроника и твердотельная электроника", 222900 "Нанотехнология и микросистемная техника", 210600 "Нанотехнология", 210100 "Электронное машиностроение", а также для инженеров и научных работников. Книга «Нанотехнологии в микроэлектронике. Нанолитография - процессы и оборудование. Учебно-справочное руководство» автора В. Ю. Киреев оценена посетителями КнигоГид, и её читательский рейтинг составил 8.40 из 10.
Для бесплатного просмотра предоставляются: аннотация, публикация, отзывы, а также файлы для скачивания.
Рецензии на книгу
Написано 0 рецензий