Читать онлайн «Фотолитографические технологии в производстве оптических деталеи? : учебное пособие»

Д. Ю. КРУЧИНИН Е. П. ФАРАФОНТОВА ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКИЕ ТЕХНОЛОГИИ В ПРОИЗВОДСТВЕ ОПТИЧЕСКИХ ДЕТАЛЕЙ Учебное пособие  Министерство образования и науки Российской Федерации Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б. Н. Ельцина Д. Ю. Кручинин, Е. П. Фарафонтова ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКИЕ ТЕХНОЛОГИИ В ПРОИЗВОДСТВЕ ОПТИЧЕСКИХ ДЕТАЛЕЙ Рекомендовано методическим советом УрФУ в качестве учебного пособия для студентов, обучающихся по программе специалитета и бакалавриата по направлению подготовки 200204 и 200400 «Оптотехника» Екатеринбург Издательство Уральского университета 2014 1 УДК 776:681. 7. 02(075. 8) ББК 37. 83я73+22. 34я73 К84 Рецензенты: начальник оптического производства М. О. Фамильцев (ОАО «Производственное объединение “Уральский оп- тико-механический завод” имени Э. С. Яламова»); главный технолог канд. техн. наук А. Е. Печорских (научно-производственная компания «Очки для Вас») Научный редактор проф. , д-р техн. наук В. А. Дерябин Кручинин, Д. Ю. К84 Фотолитографические технологии в производстве оптических деталей : учебное пособие / Д. Ю. Кручинин, Е. П. Фарафон- това. – Екатеринбург : Изд-во Урал. ун-та, 2014. – 51, [1] с. ISBN 978-5-7996-1110-1 Изложены основы фотолитографии, виды и способы изготовления оптиче- ских шкал. Рассмотрены оптические детали, требующие формирования тополо- гии на поверхности. Пособие предназначено для студентов, обучающихся по направлению «Оптотехника», аспирантов и научных сотрудников, интересующихся фотоли- тографическими технологиями. Библиогр. : 8 назв. Табл. 1. Рис. 4. УДК 776:681. 7. 02(075. 8) ББК 37. 83я73+22. 34я73 ISBN 978-5-7996-1110-1 © Уральский федеральный университет, 2014 2  ФОТОЛИТОГРАФИЯ Литографией называется процесс формирования на поверхности подложки с помощью чувствительного материала защитного рельеф- ного покрытия с изображением элементов топологии и последующего переноса изображения на подложку. В зависимости от длины волны применяемого излучения различают оптическую (фотолитографию), рентгеновскую (0,1–10 нм), электронную (0,1 нм) и ионную литогра- фию (0,1–0,5 нм). Фотолитография в свою очередь использует ближнее ультрафиолетовое излучение (360–450 нм), среднее ультра- фиолетовое излучение (300–360) и дальнее ультрафиолетовое излу- чение (100–300 нм). Фотолитография, использующая ближнее уль- трафиолетовое излучение, позволяет получать элементы топологии размером до 0,5 мкм. Дальняя ультрафиолетовая фотолитография позволяет получить минимальную ширину элемента топологии до 0,045 мкм. Фотолитография по сравнению с другими способами явля- ется хорошо изученным, более дешевым и производительным процессом, для всех этапов которого в микроэлектронной промыш- ленности разработаны разные виды оборудования, как для изготовле- ния самих микросхем, так и для изготовления фотошаблонов.