Читать онлайн «Фотолитографический метод создания тонкопленочных ВТСП структур: Лабораторный практикум»

Министерство образования Российской Федерации УДК 538. 945 Ф81 Омский государственный университет Рекомендован к изданию учебно-методическим советом ОмГУ. Протокол № 1 от 28 апреля 2004 г. Ф81 Фотолитографический метод создания тонкопленочных ВТСП структур: Лабораторный практикум (для студентов физи- ческого факультета) / Сост. : С. А. Сычев, Г. М. Серопян, И. С. По- зыгун, В. В. Семочкин. – Омск: Омск. гос. ун-т, 2004. – 27 с. Фотолитографический метод создания Материал соответствует Государственному образовательному тонкопленочных ВТСП структур стандарту по специальности 010400 «Физика». Даются представления о фотолитографическом методе создания тонкопленочных структур с Лабораторный практикум использованием метода сухого травления и, в частности, микро- (для студентов физического факультета) структур из тонких ВТСП пленок для изготовления элементов сверх- проводящей криоэлектроники. специальность 010400 «Физика» Может быть использован студентами других специальностей. УДК 538. 945 © Омский госуниверситет, 2004 Издание Омск ОмГУ 2004 2  Фотолитографический метод создания ной диффузии, эпитаксии и ионной имплантации, глубинное тонкопленочных ВТСП структур травление в полупроводниковых и диэлектрических подлож- ках и т. д. ; Цель работы: создание тонкопленочных ВТСП микрострук- 3) возможность применения групповой технологии (за одну опе- тур, в частности, сквид-геометрии методом фотолитографии и сухо- рацию и на одном виде оборудования – получение сотен и ты- го травления. сяч элементов интегральных микросхем и дискретных полу- Приборы и принадлежности: центрифуга для нанесения фото- проводниковых приборов). резиста, фоторезист ФП 20Ф, источник ультрафиолетового излуче- ния, фотошаблон (маска), пипетка, термометр, барометр, вакуумный Оптическая литография объединяет в себе такие области нау- насос, ртутный манометр, ячейка травления, химические реагенты, ки, как оптика, механика и фотохимия.